Fabricante de alvos de pulverização catódica de BN para requisitos personalizados de alta precisão
Os alvos de pulverização catódica de nitreto de boro da Newthink são adequados para aplicações de deposição química de vapor (CVD) e deposição física de vapor (PVD). Nossos produtos cerâmicos de BN possuem excelente isolamento elétrico, alta condutividade térmica e inércia química para garantir uma pulverização catódica consistente e eficiente. Fabricados com alta pureza (≥99,5%) e densidade, os alvos cerâmicos de nitreto de boro são especialmente projetados para serem compatíveis com métodos de pulverização catódica por radiofrequência (RF) e radiofrequência reativa (RF-R), com uma densidade de potência máxima de até 20 watts por polegada quadrada. Obtenha resultados excepcionais com as soluções de engenharia de precisão da Newthink.
Alvo de pulverização catódica de nitreto de boro para diversas indústrias
A Newthink pode fornecer alvos de pulverização catódica de nitreto de boro de diferentes formatos, tamanhos e processos, que podem ser aplicados em diversos setores industriais.
Fabricação de semicondutoresFilmes finos de c-BN podem ser depositados, o que é crucial para aplicações em dispositivos de alta temperatura e alta frequência.
Revestimento ÓpticoApresenta alta transparência e pode ser utilizado como película antirreflexo em dispositivos ópticos, aumentando a durabilidade, o baixo atrito e a resistência ao desgaste.
Revestimento de alta temperaturaPossuem excelente resistência à oxidação e à corrosão, sendo, portanto, muito úteis em equipamentos industriais de alta temperatura.
Embalagem de dispositivos eletrônicosAtua como um excelente material dissipador de calor, prolongando a vida útil dos componentes eletrônicos ao aprimorar o gerenciamento térmico.
Características e aplicações do alvo de pulverização catódica de nitreto de boro
O alvo de pulverização catódica de nitreto de boro é um composto refratário que possui excelente estabilidade térmica e química. As principais características e aplicações do alvo de pulverização catódica de nitreto de boro são apresentadas a seguir.
Pureza ≥99,5%, alta pureza para desempenho estável e confiável em filmes finos de precisão.
A condutividade térmica pode ser de 300-400 W/(m・K), com boa dissipação de calor.
Resiste a ácidos, álcalis e à maioria dos gases corrosivos. Ideal para a preparação de revestimentos protetores em condições de trabalho severas.
A dureza do nitreto cúbico de boro é comparável à do diamante (microdureza de até 45-50 GPa) e possui resistência superior ao desgaste.
Aplicável às técnicas convencionais de pulverização catódica por radiofrequência (RF) e radiofrequência com radiofrequência (RF-R), oferecendo versatilidade para deposições.
A resistividade é superior a 1012 Ω・cm à temperatura ambiente, tornando-o um material isolante ideal para altas frequências.
Atende aos requisitos de transmitância luminosa de dispositivos ópticos de precisão, proporcionando clareza e desempenho em revestimentos ópticos.
Os alvos de pulverização catódica de nitreto de boro têm um ponto de fusão elevado e podem manter a estrutura estável a temperaturas acima de 2000°C.
Por que escolher o alvo de pulverização catódica de nitreto de boro da Newthink?
Escolhendo Novopensamento Significa escolher qualidade confiável e consistente. Oferecemos soluções precisas de deposição de filmes finos, projetadas para atender às suas necessidades específicas.
Preparação versátil de filmes de nitreto de boro hexagonal (h-BN) e nitreto de boro cúbico (c-BN) para flexibilidade em aplicações em diversos setores industriais.
A pureza do alvo de pulverização catódica de nitreto de boro é ≥99,5% e o teor de impurezas é inferior à média da indústria.
Pequenas quantidades de amostras podem ser entregues em 3 a 7 dias.
Ser Certificado ISO, Supervisionamos rigorosamente cada processo, garantindo que cada objetivo atenda aos mais altos padrões de qualidade e confiabilidade.
Cada produto passará por uma rigorosa inspeção de tamanho antes do embalamento.
A Newthink pode fornecer um processo de limpeza ultralimpo de nível semicondutor para evitar a contaminação por partículas desde a origem.
Workshop de Produção de Alvos de Pulverização Catódica de Nitreto de Boro
Os alvos de pulverização catódica de nitreto de boro da Newthink são produzidos por um processo de precisão que utiliza tecnologia de fusão avançada para criar alvos de alto desempenho. pó de nitreto de boro Pureza de até 99,91 TP3T para a melhor densidade e microestrutura no alvo. Cada alvo de nitreto de boro para deposição por pulverização catódica é cuidadosamente limpo antes do envio para eliminar qualquer contaminação superficial e, em seguida, embalado a vácuo em um saco plástico com barreira contra umidade. A Newthink está comprometida em fornecer alvos de pulverização catódica de alto desempenho que aprimorarão seu processo de deposição e proporcionarão excelentes resultados.
Tamanhos e formatos personalizados comuns de alvos de pulverização catódica de nitreto de boro
Formas: Os alvos de pulverização catódica de nitreto de boro podem ser personalizados em vários formatos, como redondo, quadrado e anelar.
Sizes: Os tamanhos personalizados mais comuns incluem:
Redondo: Φ1,0″, Φ2,0″, Φ3,0″, Φ4,0″, Φ5,0″, Φ6,0″, até 21 polegadas de diâmetro, espessura ≥1 mm.
Quadrado: 5″ x 12″, 5″ x 15″, 5″ x 20″, 5″ x 22″, 6″ x 20″, espessura ≥1 mm, comprimento ≤ 32 polegadas, largura ≤ 12 polegadas.
Recurso
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Parâmetros para diferentes tipos de alvo de pulverização catódica de nitreto de boro
Os alvos de pulverização catódica de nitreto de boro apresentam uma variedade de processos, cujas principais propriedades são as seguintes:
- Ficha de dados
| Parâmetro | Valor | Observações |
| Tipo de material | Nitreto de boro | Sólido branco e cristalino |
| Pureza | ≥99,5% (padrão), 99,5%-99,9% (alta pureza) | A pureza pode ser personalizada para aplicações específicas. |
| Densidade | 2,2 – 2,3 g/cm³ | Garante um desempenho de pulverização catódica eficiente. |
| Ponto de fusão | manter a estabilidade estrutural em temperaturas superiores a 2000℃ | Alta estabilidade térmica para aplicações em altas temperaturas. |
| Dureza (BN cúbico) | 45-50 GPa | Extremamente duro, perdendo apenas para o diamante. |
| Condutividade térmica (h-BN) | 300-400 W/(m·K) | Alta dissipação de calor, ideal para gerenciamento térmico. |
| Resistividade elétrica | > 10¹² Ω·cm | Excelentes propriedades de isolamento elétrico |
| Estabilidade química | Excelente resistência a ácidos, álcalis e gases corrosivos (Cl₂, O₂, etc.) | Adequado para ambientes agressivos e processamento químico. |
| Faixa de espessura | 5-80 mm (personalizável) | Os alvos padrão geralmente variam de 5 a 10 mm; podem ser adaptados às necessidades específicas. |
| Tamanho e formato | Personalizável (redondo, quadrado ou formatos específicos de acordo com as necessidades) | Obtido por meio de corte de diamante, microusinagem a laser ou metalurgia do pó. |
| Métodos de pulverização catódica | RF, RF reativa (RF-R) | Compatível com diversas técnicas de pulverização catódica. |
| Controle de Contaminação | Processo de ultralimpeza, selado a vácuo com barreira contra umidade. | Garante a entrega sem partículas para aplicações sensíveis. |
| Aplicações | Semicondutores (MOSFETs, substratos de LED), dispositivos médicos, revestimentos para altas temperaturas, produtos de armazenamento de energia | Uso versátil nos setores de eletrônica, medicina e energia. |
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Nossos alvos de pulverização catódica de nitreto de boro possuem pureza mínima de 99,51 TP3T. Podemos fornecer alvos com pureza ainda maior (99,5-99,91 TP3T), produzidos por prensagem a quente ou prensagem isostática a quente, para aplicações especiais que exigem baixíssimos níveis de impurezas (como O, C, etc.), com impurezas controladas em nível de ppm.
A espessura dos alvos de pulverização catódica varia de acordo com a aplicação. Por exemplo, alvos de 5 a 10 mm são comumente usados na produção de semicondutores, alvos industriais de cobre podem ter até 80 mm de espessura, e alvos compostos (como laminados metal-cerâmica) têm uma espessura que depende do projeto da estrutura, geralmente entre 10 e 30 mm, considerando a condutividade térmica e o isolamento. Podemos fornecer a espessura conforme sua necessidade.
Sim, o formato e o tamanho dos nossos alvos de nitreto de boro para deposição por pulverização catódica podem ser personalizados. Podemos fornecer aos clientes tamanhos e formatos padrão, como redondo, quadrado, etc., e também oferecemos fabricação sob medida, que pode ser feita por corte com diamante, microusinagem a laser ou personalização de moldes de metalurgia do pó, de acordo com suas necessidades específicas de tamanho.
Os alvos de pulverização catódica de nitreto de boro são usados principalmente nas áreas de semicondutores e informação eletrônica, como na deposição de camadas isolantes de nitreto de boro (para dispositivos MOSFET, substratos de LEDs ultravioleta profundos), na preparação de filmes dielétricos para dispositivos de alta frequência; no campo de revestimentos especiais, eles fornecem soluções de filmes de nitreto de boro ultrarresistentes (dureza de até 40 GPa) e com baixo coeficiente de atrito para dispositivos médicos (como bisturis cirúrgicos) e moldes de precisão; na fabricação de circuitos integrados, são usados como materiais de camada dielétrica isolante de alta pureza (como isolamento entre camadas para chips de processo avançado); no campo de novas energias, apresentam as vantagens da alta estabilidade química em camadas de interface de eletrólito de baterias de estado sólido e revestimentos de membrana de troca de prótons de células a combustível de hidrogênio, etc.
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